Processus ti lekengo na film Anti Reflection .

Processus ti technologie .
A mû aye ti konongo na aye so ayeke na yâ ti gaz: Mû aye ti maïngo ti film so ayeke sara si zo abâ ndo nzoni, na tapande SiO na yâ ti ambeni ye so ayeke na yâ ti tere ti zo, na ngoi so lo yeke mû a-appareil ti gaz so alingbi na aye so ayeke sara si a yeke ngangu pëpe ti sara kua na ni, na tapande SiH ⁄, N 2 O, nga na N 2.
Formation ti couche ti antirésentation: Lo sara kua na oko ye so ayeke kono ti sara si a sara kamême ambeni couche ti anti reflexion use ti film ti anti reflexion na ndö ti couche ti substrat ni. Na yâ ti couche ti substrat ni, a lingbi ti wara couche ti SiO, couche ti Si, nga na couche ti absorption na ndo ti lege so film ni ayeke gue na li ni. Na mungo na lo couche ti anti reflexion use (kozo couche ti reflection nga na use couche ti reflexion) tongana tapande, a yeke sara ni na lege ti kode ti konongo ti épitaxial (tongana kode ti ziango na sese plasma so ayeke sara si a-vapeur ti plasma aga nzoni PECVD). Ambilimbili ye so a lingbi a sara ayeke so:
A yeke sara kua na a-substrat: Na peko ti so a sara kua na a-semi-conducteur na ndö ti couche ti substrat ni, zia couche ti substrat ni na ndö ti aye ti déposition ti CVD.
A leke aparamètre ti aye ti lekengo na ni: A yeke sara kua na a-électrode so ayeke na nduzu ti zia na yâ ti a-appareil ni ti si na 200-300 degré nga na électrode so ayeke na gbe ni ti si na 250-350 degré .
Growth of the first anti reflection layer: Adjust the first deposition parameters of the CVD deposition equipment, including the first volume flow rate of SiH ₄, N ₂ O, and N ₂, the first gas pressure, the first RF power of the CVD deposition equipment, the first thin film deposition time, etc., or any combination thereof, to grow the first anti reflection layer with a thickness range of 10-200nm and mbeni index ti réfraction so ayeke 1,4-1,71.
A yeke wara na yâ ti mbeni use couche ti anti re fression: A leke use paramètre ti deposition ti aye ti deposition ti CVD, so na popo ni a yeke wara use wungo ti ngu so ayeke sua na SiH ⁄, N 2 O, na N 2, use pression ti gaz, use ngangu ti RF ti aye ti deposition ti CVD, use ngoi ti deposition ti film ni, wala mbeni ye tongaso, ti kono yâ ti mbeni use couche ti antirévision ni, ti kono yâ ti mbeni use couche ti antirévision ni, ti kono yâ ti mbeni use couche ti antirésentation ni, ti kono yâ ti mbeni use couche ti a-attraction na ndo ti mbeni kota ndo ti sarango kua na ni, ti kono yâ ti mbeni use couche ti anti reflexion na ndo ti mbeni kota kapa ti sarango kua na ni. 10-200nm na mbeni index ti réfraction so ayeke 1,4-1,71.

A yeke nzoni ti sara kua na technologie .
Na salango kusala na oko ye ti maïngo ni, film ti anti reflexion alingbi ti wara oko ye ti salango na kusala tongana a haka ni na afilm ti anti reflexion so abungbi oko ti aye nde nde, ti sala si mara ti gaz so a sala kusala na ni aga kete, ti sala si kpale ti lekengo ye ni aga kete, na ti kono ndo ti lekengo ye nga na ndo ti kusala ndali ti batango na salango kusala na alege ti gaz na ngoi ti lekengo ye ni.

A yeke sara kua na hybride SiO 2/TiO 2 ti sara kua na ni .

Processus ti technologie .
A leke aye so ayeke na gbe ni: Sorongo ambeni ye so ayeke polele tongana verre, verre organique, film ti polyimide, na ambeni ye tongaso, na sara mbeni yorö ti zingo na tache ti tene a duti na mbeni ndo so ayeke propre nga poussière. Tongana a hunda ti sala tongaso, a lingbi ti sala silence silep wala double- na mbage ti tele ti sala si lumière ni aga nzoni ahon.
A leke ti tene a sara kua na film ni: tetrathysilane (TEOS) nga na tetrabutyty (TBT) so ayeke na yâ ni NH z ₄ OH na yâ ti mbeni mbage ni, na a yeke sara kua na ni teti angbonga 9-12 ti wara mbeni système ti sol -gel so ayeke transparent.
A yeke sara kua na système ti gel ti sol so a leke ni nzoni na ndö ti substrat so ayeke transparent, na a lingbi ti sara kua na a-échec, a-spray, a-brosse nga na ambeni ye nde. Na peko ti so a zia na ndo ti mbeni ye, a yeke zia na yâ ti mbeni four ti tene a sava na azo nga ti sara si a sara kua na ni.
Couverture circulaire: Kiri mo sara kua na couche nga na lege so a yeke sava na mo juska a wara ye so mo ye ti sara. A yeke hunda ande ti sara kua na angoi nde nde ti sarango na couche nga na a-séquence so ayeke sara si a-anti-réflexion ayeke sara kua nzoni, nga a hunda ti sara recherche nga ti sara si a-optimisation.
Ti sara kua na ni: Ti tene a sara si film so ayeke sara si zo aduti nzoni akiri aga ngangu, a lingbi ti zia mbeni couche ti polymère so ayeke hydrophile nga na hydrophobe na ndo ti film so ayeke sara si zo abâ gigi.

A yeke sara kua na mbeni film so ayeke sara kua na infrarouges .
Processus ti technologie .
Film ti infrarouges anti restruction aluti na ndo ti silicium na a sara ni na afilm ti anti reflexion na mbage use kue ti substrat ni. A leke système ti film ti film ti anti reflexion ni nde tongana (HL) ^ S, ndo so H afa couche ti Si, L afa couche ti SiO, S afa ngoi ti akota ye ti HL, na ngele ti S ayeke mbeni wungo so ayeke na popo ti 3-6. Couche ti Si ayeke na tere ti substrat ni, na couche ti SiO ni ayeke na ndo ti sese. A yeke sara kua na couche ti film ni ti zia na yâ ti substrat ni, na couche ti film ti SiO ayeke na yâ ti couche so ayeke na gigi mingi, so ayeke na ngangu ti sara kua na ni nga so ahunda pëpe ti tene a zia mbeni couche ti batango na ndo ni. Na ndo ni, SiO ayeke na mbeni index ti réfraction so ayeke kete, so alingbi ti sara si ndo ti sese ni akiri na peko nga ti sara si a-infrarouges ni ague na li ni mingi.

A yeke sara kua na CO 2 so ayeke na ngangu ti sara kua na CO 2 so ayeke na ngangu ti sara kua na ni.
kode ti senda-ye .
A yeke sara kua na ambeni ye so ayeke sara si a yeke ngangu pëpe ti sara kua na fluor, fluor ti calcium nga na ambeni ye so ayeke sara si a yeke ngangu pëpe ti zi asioni ye na yâ ti film ni.
Couche ti film ti deposition: Kozo couche ti fluor ti yttum, couche ti fluor ti yttum, couche ti sélenide ti zinc, nga na use couche ti fluoride ti yttrium ni ayeke na ndo ti mbeni couche ti substrat ti zinc so ayeke na mbeni épaisseur ti 3 ± 0,1mm na lege ti évaporateur. A yeke wara na yâ ti couche oko oko ahon 95% ti akota ye so ayeke na yâ ti couche ti substrat ni. Akota ye so a hunda ti tene a sara na couche oko oko ayeke so: kota ti fluoride ti yttrium ni ayeke na 95-100 nanomètre; A yeke wara na yâ ti couche ti fluor ti calcium ti ytterbium 860-870; A yeke wara na yâ ti couche ti selenide ti zinc ni 240-250 nanomètre; A yeke wara na yâ ti use couche ti fluor ti use fluorum ni 95-100 nanomètre.
 

A yeke nzoni ti sara kua na technologie .
Membrane so a leke ni awe ayeke na mbeni lekengo ye so ayeke ngangu pëpe nga na mbeni pendere lekengo ye. Abungbi ti couche osio so ayeke na asalango ye ti gango ngangu ti wâ, ti gango na ngu, ti kpengba couche ti membrane, ti mbeni ngangu so ayeke mû maboko na popo ti acouche ti membrane, nga na ti kangbingo yâ ti acouche ti membrane pëpe. Lo lingbi ti sara kua na acomposant so ayeke gue na li ni na gbe ti akota ndowa, na aye so a sara kua na ni na yâ ti couche oko oko ayeke pëpe radioactif, so ayeke sara si azo so ayeke sara kua na ni nga na ndo so ala yeke dä abuba pëpe.